北京韫茂量子科技股份有限公司是碳化硅外延炉、磁控溅射镀膜机、热式ALD、等离子体ALD、粉体镀膜设备、流化床CVD设备、电子束蒸发镀膜机等国产镀膜设备厂家。
北京韫茂量子科技股份有限公司2018年3月创立于厦门，2026年1月整体迁址北京市（厦门保留分公司），是国家专精特新“小巨人”、高新技术企业，由斯坦福博士及硅谷高端装备海归团队牵头，先后获北京市级政府引导基金、先进制造基金等战略投资。
北京韫茂量子科技股份有限公司定位前沿纳米级薄膜沉积方案供应商，围绕ALD原子层沉积（热式/等离子体/粉末批次）、PVD磁控溅射与电子束蒸发、CVD（含MPCVD金刚石、流化床粉末CVD）、Epi碳化硅外延炉（SICE-Y8等）构建全栈装备矩阵，覆盖8/12寸晶圆级到百公斤级粉体量产机型，主攻锂电池粉体包覆、Mini/Micro LED与衍射光波导、碳化硅功率器件、集成电路、超导材料等高壁垒场景，其中工业级粉末ALD/CVD、300mm量产ALD/PVD集群系统、SiC外延CVD均为国产替代进口的代表性突破，客户横跨泛半导体、新能源、先进光显与科研院所。
北京韫茂量子科技QBT-P300 Cluster 超高真空磁控溅射集群系统
产品概况
具备超高真空背景环境，全自动操作，可在高温和常温下实现高质量钽膜生长，钽膜的Tc超过4.25 K，剩余电阻比大于6，用于制备低损耗超导电路，单光子品质因数超过100万，且对应的量子比特相干时间超过250μs。
技术优势
晶圆尺寸：最大兼容12英寸，并向下兼容进样腔极限真空：≤5E-9 Torr溅射腔极限真空：≤5E-10 Torr镀膜均匀性：<2%IM腔刻蚀均匀性：1δ<5%溅射沉积温度：0-900℃手动放样，全自动传输腔体采用316L不锈钢材质，电解抛光工艺溅射腔体采用进口冷泵，极限真空≤3E-9Torr全自动靶基距调整（60mm-140mm）北京韫茂量子科技股份有限公司官网：https://www.ym-qbt.com/，电话：15160710544。