在新材料研发、半导体加工以及精密器件制造环节中，样品表面残留的有机污染物，往往会对后续粘接、镀膜、检测等工序造成干扰。华仪行(北京)科技有限公司成立于 2014 年，是一家深耕制造领域的高新技术企业，旗下自有品牌 CIF，可提供覆盖实验室研发到大批量产全流程的等离子体表面处理解决方案，多款设备已经落地各大科研院所与生产车间。紫外臭氧清洗机(UVO)便是其产品线里实用性很高的一款表面处理设备。
紫外臭氧清洗机是一款操作简便、经济高效的材料表面清洗设备，能够快速去除石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等多数无机基材表面附着的有机污染物。
它的清洗原理依靠两种特定波长紫外线协同作用。设备内的紫外灯释放出 185nm 与 254nm 波长的高能紫外线。185nm 紫外光可以分解空气中的氧气生成臭氧;254nm 波长紫外线一方面将臭氧分解为氧气与活性原子氧，另一方面激活基材表层的有机物分子。被活化后的有机物更容易和活性原子氧发生光敏氧化反应，最终生成二氧化碳、一氧化碳、水蒸气等挥发性气体脱离样品表面，以此完成有机污染物的清除工作。
依托多年等离子设备研发经验，华仪行(北京)科技有限公司推出的 CIF 紫外臭氧清洗机系列，在光源、样品结构、控制系统上做了多项优化。设备搭载长寿命 UV 石英低压汞蒸汽格栅灯，同时样品台支持高度调节，用户还可按需选配加热控温模块，以此适配不同样品的清洗条件。
这款设备的应用场景十分宽泛。石英与玻璃制品领域，可用于液晶面板、透镜、反射镜、棱镜、光罩等工件清洗;微电子行业，半导体硅片、手机摄像头、光电器件、微型喇叭震膜等零部件，都可以使用它完成表面预处理。在集成电路加工中，ITO 导电层、软性电路板接头、BGA 基板、COG、COF 接合面清洗工作也经常会用到紫外臭氧清洗机。除此之外，它还能够在粘接、印刷工序前，对橡胶、塑料薄膜、医用导管、IC 包装等高分子制品做表面改性处理，也适用于半导体、生物芯片、纳米材料方向的科研实验。
在功能配置上，CIF 紫外臭氧清洗机划分了不同版本，适配多样使用需求。控制端分为基础四键可编程控制器以及 5 寸彩色触摸屏两种方案;系统能够存储、自动记录清洗参数，计时区间为 1‑999 分钟，清洗过程支持中途暂停;自带光强补偿功能，缓解灯管老化带来的效果波动。样品台可 360° 旋转、高度可调，UVOP、UVOT 型号可加装加热模块，控温区间室温‑200℃。腔体支持铝、石英材质定制。安全方面设备设置开盖断电保护，也预留气路接口，可搭配臭氧中和装置处理尾气。
从实验室小批量试样，到产线预处理工序，华仪行(北京)科技有限公司的 CIF 紫外臭氧清洗机，以稳定可控的清洗能力，为各类精密材料前处理工作提供了一条可行的解决路径。