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旋涂仪核心产品系列与技术参数


更新时间:2026-09-20 浏览次数:54 类别:产品选型与指南

上海三研科技有限公司(以下简称“三研科技”)成立于2009年,总部位于上海,是一家专注于为纳米薄膜材料、纳米粉体材料领域的科学研究及产品生产提供仪器设备的专业厂商。该公司深耕溶胶-凝胶法制备技术,在浸渍提拉镀膜与高精度匀胶设备领域积累了丰富的技术经验,其核心产品为SYSC系列高精度程控旋转涂膜仪(Spin Coater)。


旋涂仪核心产品系列与技术参数

三研科技的匀胶机产品覆盖SYSC-100、150、200、300等多个系列,适配基片尺寸从Ø10mm至Ø300mm(8英寸),部分型号可支持更大尺寸定制。不同型号在转速与加速度上有所区分:

SYSC-100A:适配直径10mm至100mm基片,旋转速度10~8000rpm,最高旋转加速度可达40000rpm/s(有负载真实加速度)。

SYSC-300系列:适配直径10mm至300mm基片,其中SYSC-300A转速10~6000rpm,SYSC-300B可达10~8000rpm,最高旋转加速度达50000rpm/s。

全系设备转速分辨率可达1rpm,速度精度控制在0.02%以内,支持主动式速度调控,运行稳定无振动,镀膜无条纹。


旋涂仪技术特点与工艺控制

1.驱动与控制:搭载专为匀胶机设计的精密高速伺服电机,具备高精度、高稳定性与高可靠性。匀胶过程支持全自动分段程序控制,最多可分十段进行,每段的加速时间、旋转速度、匀胶时间均可精密控制、连续可调。设备可储存50组常用工艺程序,随时调取复用,适配多品类材料批量研发与生产。

2.人机交互:配备7英寸液晶触摸屏,整机运行状态、实时转速、剩余时长等参数直观呈现,真空泵启停均为自动程序控制,无需人工干预。

3.工艺辅助:旋转前增加预吸片步骤(预吸片时间最多99s),确保基片牢固吸附后再进行涂膜;匀胶完成后增加解吸片步骤(解吸片时间最多99s),安全停止后再切断真空释放基片,防止涂膜后的基片滑落损伤膜层。


旋涂仪结构材质与安全防护

1.机身外壳:采用SUS304不锈钢制作,防腐蚀、不生锈、易清洁,适配实验室及生产车间长期使用环境。

2.匀胶腔体:采用德国劳士领NPP材料,经CNC一体加工成型,可承接脱离基片的多余胶液,避免废液侵入真空管路与设备内部,耐腐蚀、易清洁。

3.旋转吸片台:采用德国劳士领PEEK材料,经CNC一体加工成型,具备耐高温、耐腐蚀、不变形的特性,长期使用可维持涂膜精度稳定。

4.安全互锁:设置双重安全互锁机制——腔体开合检测确保腔体关闭后才可启动,防止飞片造***身伤害;真空吸片检测功能在发生真空泄漏、基片吸附不牢固时立即停止运行,规避安全隐患与样品损耗。


应用领域与定制能力

三研科技的旋涂仪广泛应用于微电子、半导体、光电器件、新能源、生物材料、光学器件等领域的各类高精密纳米功能涂层制备,例如光阻涂覆、生物功能涂层、纳米薄膜材料等。

在定制化方面,三研科技可根据用户需求提供超大尺寸基片处理能力(最大支持300mm以上基片),以及12000rpm以上至2万转的超高速定制方案,满足特殊工艺对高转速的需求。



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